氮化镓GaN 器件主流- 600V GaN D-mode HEMT介绍

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28 10 月, 2021

A以目前氮化镓GaN而言,专有名词和缩写如下,这有助于我们了解氮化镓GaN规格和用途。 本文章是氮化镓GaN基楚介绍,从网络上收集相关文章,协助进一步了解氮化镓GaN用途。

HEMT : High Electron Mobility Transistors
MIS-HEMT : Metal-Insulator-Semiconductor -High Electron Mobility Transistors
E-mode GaN : Enhancement-mode GaN
D-mode GaN : Depletion-mode GaN
Gross die: 一片wafer有多少顆產品。一般而言,目前GaN wafer 是6吋晶片。
2DEG: two dimensional  electron  gas(二維電子氣通道)

我们从氮化镓GaN市场、用途说起,包含氮化镓GaN制程、氮化镓GaN结构和相关差异。 未来的氮化镓GaN会是氮化镓GaN on SiC 且结构是垂直型。 在考量成本和制程能力下,目前主流市场是氮化镓GaN on Si的水平结构,且以6寸芯片为主。

目录 :

  • 氮化镓GaN 市场、应用,特别在Power Electronics:

  • 氮化镓GaN构造

  • 氮化镓GaN制程:

  • HEMS 和 MIS-HEMT的差异:

  • 氮化镓GaN的未来构造:

  • 氮化镓GaN功率器件在快充市场的应用:

  • 其它:

氮化镓GaN 市场、应用,特别在Power Electronics:

氮化镓GaN构造:

  • 一般氮化镓GaN 结构而言,电流是在氮化镓GaN内流动,也是图上Active Region。

  • 为避免电流流出氮化镓GaN区域,上下层用AlGaN来防止电流外溢,也就是绝缘层。

  • Active Region 也称为2DEG(two dimensional electron gas; 二维电子气通道)

氮化镓GaN制程:

  • 单晶衬底(或SiC/蓝宝石/Si),蓝宝石主要用于LED。 碳化硅SiC比Si有比较好、比较少的缺陷,但制程相对难且贵。

  • 2DEG 为主要channel,也是GaN器件核心,上下层的AlGaN过厚,容易导致散热不佳。

  • D-mode HMET GaN: 氮化镓GaN是HMET(High Electron Mobility Transistors) 组件,他的Vt是负的,也就是常开元件(D-mode),一般应用而言,我们希望元件是常关(E-mode),即是不导通状态,这是D-mode HMET的缺点。 好处是Vt比较高,制程简单。

  • E-mode HMET GaN:某大Fab厂,在制程上,Gate poly 和 implant 上作相应调整,嚷Vt是正的。 缺点是栅极漏电上升(higher gate leakage current),同时最大Vg 约在7V左右。

E-mode 和 D-mode 的等效电路:

E-mode GaN D-mode GaN(Cascode)

Powerelectronicsnews

主要是D-mode GaN 的Vt是负的,需要外加一个Mos 来形成常态的Off. E-mode 本身,以用制程等方式,将Vt变成正的,已是常态的Off。

HEMS 和 MIS-HEMT的差异:

氮化镓GaN的未来构造:

IEEE.org

氮化镓GaN的未来构造,也将从电流水平方向变成垂直方向。

氮化镓GaN功率器件在快充市场的应用:

氮化镓GaN与碳化硅SiC的应用领域: